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產(chǎn)品展示/ Product display

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藥物晶種濕法研磨分散機(jī)

藥物晶種濕法研磨分散機(jī),目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達(dá)到要求的細(xì)度,結(jié)合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm,膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-05
  • 訪  問  量:69
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詳細(xì)介紹

一、產(chǎn)品名稱:藥物晶種濕法研磨分散機(jī),藥物晶種研磨分散機(jī),藥物晶種濕法分散機(jī),藥物晶種濕法研磨機(jī)

二、藥物晶種簡介

晶種是在結(jié)晶法中可以形成晶核從而加快或促進(jìn)與之晶型或立體構(gòu)型相同的對映異構(gòu)體結(jié)晶的生長的添加物。加晶種進(jìn)行結(jié)晶是控制結(jié)晶過程、提高結(jié)晶速率、保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要方法之一。

三、晶種的意義

晶種用以提供晶體生長的位點,以便從均勻的、僅存在一相的溶液中越過一個能壘形成晶核,加入的晶種加速了目標(biāo)晶型的生長速率,有助于得到目標(biāo)品型。工業(yè)制品中,為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品,都要盡可能避免初級成核,控制二次成核,加入適量的晶種作為晶體生長的核心通常是必須的,晶種的制備因此也成為制備晶體的一個重要環(huán)節(jié)。

藥物晶種濕法研磨分散機(jī)

晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取,如果需要,則需要說明晶種的獲取途徑,如果晶種的性質(zhì)有特別要求,需說明晶種的特性及檢測方法。另外,晶種與晶型的穩(wěn)定性也存在一定的關(guān)系。例如,也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長。穩(wěn)定晶型會在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型表面成核、生長,直至*轉(zhuǎn)晶,這是由于兩種型的某一晶面的結(jié)構(gòu)相似,溶質(zhì)分子可以在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型晶面上直接堆積、排列成穩(wěn)定晶型。

四、藥物晶種的粒徑要求

目前許多結(jié)晶體一般在40-50UM ,下游的客戶在處理這些物料有跟高的要求一般需要達(dá)到5-10UM  ,傳統(tǒng)采用干法氣流粉碎 無法達(dá)到要求的細(xì)度,結(jié)合多家客戶案例,推薦GMSD20000系列研磨分散機(jī)進(jìn)行晶種研磨細(xì)化處理,轉(zhuǎn)速18000rpm,膠體磨+分散機(jī)一體化設(shè)備,粒徑可達(dá)D90≤10μm。

藥物晶種濕法研磨分散機(jī)


五、SGN濕法研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)特點

SGN濕法研磨分散設(shè)備采用德國的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)18000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使晶種在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。

GMD2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到更低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運行。

藥物晶種濕法研磨分散機(jī)

六、藥物晶種研磨分散機(jī)選型表:

研磨分散機(jī)流量*輸出線速度功率入口/出口連接
類型l/hrpmm/skW
GMSD 2000/430018,000504DN25/DN15
GMSD 2000/5100013,0005011DN40/DN32
GMSD 2000/1030009,2005022DN80/DN65
GMSD 2000/2080002,8505037DN80/DN65
GMSD 2000/30200001,4205055DN150/DN125
GMSD2000/50600001,10050110DN200/DN150

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